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半导体外延工艺的良率提升

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楼主
发表于 2013-8-14 14:38:56 | 只看该作者 回帖奖励 |正序浏览 |阅读模式
半导体外延工艺的良率提升

JMP中国区顾问团队

       在半导体产业中,良率分析一直是个热门话题。几十亿的资金投资在晶圆制造的设备上,迅速的投资收益对半导体厂商来说是非常关键的。加速良率学习并提高良率是一项重要的竞争优势。若想要维持一定的生产力,至少不能增加浪费在寻找制造问题和改正制造问题的时间。将良率提高 10%,就可以替企业一年省下数亿的资金。以试验设计DOE为代表的统计分析技术是实现良率提升的重要手段,在Intel、National Semiconductor等技术领先型企业中得到了广泛的应用。

       例如,某全球知名的半导体公司上海厂在某产品的外延沉积的工艺处理中,OOC Rate(失控率)极高,平均水平仅为30%左右,导致生产周期拖长,严重影响了该厂的生产能力,对月产3000片的要求造成极大威胁;而且增加了额外的生产成本,严重影响公司的既定利润目标的实现。因此,该厂领导下决心建立专案小组来解决多年来一直没有解决的顽症,改进这方面的工作。

      
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84#
发表于 2023-9-12 08:39:31 | 只看该作者
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发表于 2023-9-6 07:17:44 | 只看该作者
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发表于 2023-8-28 07:20:06 | 只看该作者
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81#
发表于 2023-8-21 16:06:26 | 只看该作者

非常好的学习资料,感谢
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80#
发表于 2023-4-2 08:07:25 | 只看该作者
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79#
发表于 2023-3-29 14:31:09 | 只看该作者
学无止境,谢谢楼主
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78#
发表于 2023-3-7 07:35:09 | 只看该作者
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77#
发表于 2023-2-28 14:49:21 | 只看该作者
半导体外延工艺的良率提升 学习~~
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76#
发表于 2022-11-28 12:48:34 | 只看该作者
案例学习,希望可以有帮助
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